主题：小议对台战争的时间表 -- 舟轻云淡

首先并不存在什么14/10nm的光刻机。

所谓的22nm光刻机，应该是指使用193nm Arf光源的浸入式光刻机，也就是DUV，是各大芯片厂商都在用的光刻机。这是除了ASML的EUV以外世界第二的水平。这个机器的实际光刻精度好像只有38nm。但有了这个就能靠多重曝光做28nm，14nm，10nm，和7nm的芯片了。

只是再进一步的话就得需要EUV，也就是使用13.5nm光源的光刻机。朝廷的计划是2030年实现。

另一种路线是中科院前年发表的新原理光刻机，使用365nm的光源实现了22nm的刻线，远超DUV。这说明光路控制原理非常先进。如果能将这种原理和DUV结合起来，那么只要用193nm光源也能实现12nm的刻线。到那个时候不用EUV也能实现5nm、3nm甚至2nm的芯片。

总之，有了22nm这台光刻机，中芯、鸿芯、华力可以稳稳地把14和7nm级别的芯片白菜化。而且这个22nm的东西一出厂，荷兰方面会老老实实地把EUV送来。所以说，我看光刻机方面我们稳了。

来源1:

https://m.sohu.com/a/385900269_636906?spm=smpc.content/new.nav.1.1575244800026oXoZw5N&scm=1002.5d0059.0.2883-0

来源2:

https://www.zhihu.com/question/312070549

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